R116（六氟乙烷，全氟乙烷，C2F6）可用于一种具多功能的蚀刻技术，常见于半导体之生产。它可用于金属硅化物及金属氧化物并相对其金属基质的选择性蚀刻。 叧外，它亦用于蚀刻硅上的二氧化硅。 六氟乙烷作为干腐蚀剂具有边缘侧向侵蚀现象极微、高蚀刻率及高精确性的优点，可以极好地满足线宽较小的制程要求，被广泛应用于半导体制作过程中。
R116制冷剂参数
| 名称：R116、FC-116 | 中文名称：六氟乙烷，电子级氟碳，全氟乙烷，氟里昂116 |
| 英文全称：hexafluoroethane | 化学分子式：CF3CF3、C2F6 |
| 分子量:138 | 标准沸点：-78℃ |
| 临界温度:20℃ | 临界压力：3MPa（绝压） |
| 临界密度：0.613g/cm3 | CAS编号：76-16-4 |
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