四氟化碳（四氟甲烷，全氟化碳，PFC-14，R14）英文名称Carbon Tetrafluoride Tetrafluoromethane。四氟化碳属于fc类物质,对臭氧层没有破坏、但存在温室效应；四氟化碳是无色无臭无味不燃的易压缩性气体。微溶于水。挥发性较高，是最稳定的有机化合物之一，在900摄氏度时，不与钢、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，对热非常稳定，化学性质比四氯化碳更不活泼。
四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。
当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力。
包装规格：30Kg、320kg
四氟化碳参数
四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。
当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力。
包装规格：30Kg、320kg
四氟化碳参数
| 名称：R14、FC-14、氟利昂14、PFC-14、Freon14 | 中文名称：四氟甲烷、四氟化碳 |
| 英文全称：tetrafluoromethane | 化学分子式：CF4 |
| 分子量:88 | 标准沸点：-128.05℃ |
| 临界温度:-45.64℃ | 临界压力：3.75MPa（绝压） |
| 临界密度：0.626g/cm3 | CAS编号：625.7 |
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