Trifluoreto de nitrogênio (NF3) 4N Grau

O trifluoreto de nitrogênio (NF3) é um gás incolor, inodoro, estável à temperatura ambiente e um forte oxidante. O trifluoreto de nitrogênio é usado como um excelente gás de gravação por plasma na indústria microeletrônica. É quebrado em íons de flúor ativos durante o etching iônico. Estes íons de flúor têm excelentes taxas de gravação e seletividade para compostos de silício e tungstênio, e trifluoreto de nitrogênio de alta pureza. (foróxido de silício e silício), não deixa nenhum resíduo na superfície do material gravado durante a gravação. É um agente de limpeza muito bom, e também é amplamente utilizado na fabricação de chips e lasers de alta energia.

O gás trifluoreto de nitrogênio de grau eletrônico é um novo tipo de produto químico eletrônico desenvolvido nos últimos anos e é usado principalmente para gravação de plasma e limpeza de componentes eletrônicos. Quando o trifluoreto de nitrogênio é usado para gravar o silício e o nitreto de silício, ele tem uma taxa de gravação e seletividade mais altas, e nenhuma matéria permanece na superfície do objeto gravado.

Principais usos do trifluoreto de nitrogênio:
1. Usado como fonte de flúor para gás laser químico de alta energia.
2. Como agente de gravação e limpeza na indústria eletrônica (IC).
3. Aplicado à indústria solar fotovoltaica.
Outros usos do NF3: produzir sais de perfluoroamônio, usar como gases de enchimento para aumentar a vida útil e o brilho da lâmpada, usar como oxidantes em mineração e tecnologia de foguetes, etc.