三氟化氮 4N级NF3

三氟化氮（NF3）在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

电子级三氟化氮气体是近年发展起来的一种新型电子化学品，主要用于电子元件的等离子蚀刻及清洗。三氟化氮用于硅和氮化硅蚀刻时，具有更高的蚀刻速率和选择性，且在被蚀刻物表面不残留任何物质。

三氟化氮主要用途:
一、用作高能化学激光气的氟源。
二、作为电子工业(IC)中的蚀刻剂、清洗剂。
三、应用于太阳能光电产业。
NF3其它用途：生产全氟铵盐，用作填充气体以增加灯泡的寿命和亮度，在采矿和火箭技术中用作氧化剂等。