Trifluoruro di azoto 4N NF3

Il trifluoruro di azoto (NF3) è un gas incolore, inodore e stabile a temperatura ambiente ed è un forte ossidante. Trifluoruro di azoto nell 'industria della microelettronica come un eccellente gas di incisione al plasma, durante l'incisione ionica scissione in ioni di fluoro attivi, questi ioni di fluoro per silicio e composti di tungsteno, trifluoruro di azoto di alta purezza ha un' eccellente velocità di incisione e selettività (ossido di silicio e silicio), quando è inciso, non lascia alcun residuo sulla superficie dell 'incisione, è un buon detergente, allo stesso tempo nella produzione di chip, laser ad alta energia ha ottenuto un sacco di applicazioni.

Il gas trifluoruro di azoto di grado elettronico è un nuovo tipo di prodotto chimico elettronico sviluppato negli ultimi anni, utilizzato principalmente per l'incorporazione al plasma e la pulizia di componenti elettronici. Quando il trifluoruro di azoto viene utilizzato per l'incorporazione del silicio e del nitruro di silicio, ha una velocità e una selettività di incorporazione più elevate e non lascia alcun residuo sulla superficie dell 'incorporazione.

Principali usi del trifluoruro d'azoto:
I, utilizzato come fonte di fluoro per il gas laser chimico ad alta energia.
Come agente di gravura e detergente nell 'industria elettronica (IC).
Applicazione nell 'industria solare fotovoltaica.
Altri usi di NF3: produzione di sali di perfluoroalquileno, usato come gas di riempimento per aumentare la durata e la luminosità delle lampadine, usato come ossidante nelle miniere e nella tecnologia dei razzi.