Das Kältemittel R116 (Hexfluorethane, Perfluorethane, C2F6) kann in einer vielseitigen Ätztechnik verwendet werden, die häufig in der Halbleiterproduktion verwendet wird. Es kann für die selektive Ätzung von Metallsilikiden und Metalloxiden und relativ zu ihren Metallsubstraten verwendet werden. Außer Silizium wird es auch verwendet, Siliziumdioxid auf Silizium zu etzen. Hexafluorethane als trockenes Korrosionsmittel hat die Vorteile der extrem geringen seitlichen Erosion der Kante, der hohen Ätzrate und der hohen Präzision, kann die Anforderungen an die kleine Liniebreite sehr gut erfüllen und wird weit verbreitet in der Halbleiterherstellung verwendet.
R116 Kältemittelparameter
| Bezeichnung: R116, FC - 116 | Chinesischer Name: Hexafluorethane, elektronische Grade Fluorkohlenstoff, Perfluorethane, Fluoron116 |
| Englischer Name: Hexafluoroethane | Chemische Formel: CF3CF3, C2F6 |
| Molekülgewicht: 138 | Standard-Siedepunkt：-78℃ |
| Kritische Temperatur:20℃ | Kritischer Druck: 3MPa (Absolute Druck) |
| Kritische Dichte: 0,613 g / cm3 | CAS Nummer: 76 - 16 - 4 |
Einsatzbereiche
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Lieferung & Bestellung
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