El refrigerante R116 (hexafluoroetano, perfluoroetano, C2F6) se puede utilizar en una técnica de grabado multifuncional que se encuentra comúnmente en la producción de semiconductores. Se puede utilizar para el grabado selectivo de electrolito metálico y óxido metálico y sus sustratos metálicos. Además del silicio, también se utiliza para grabar dióxido de silicio sobre sílice. Como agente de grabado seco, el hexafluoroetano tiene las ventajas de poca erosión lateral del borde, alta tasa de grabado y alta precisión, y puede satisfacer los requisitos del proceso de fabricación de anchos de línea pequeños.
Parámetros de refrigerante R116
| Nombre: R116 y FC - 116 | Nombre chino: Hexafluoroetano, fluorocarbono de grado electrónico, perfluoroetano, freón 116 |
| Nombre completo en inglés: Hexafluoroetano | Fórmula química: CF3CF3, C2F6 |
| Peso molecular: 138 | Punto de ebullición estándar: 78 °C |
| Temperatura crítica: 20 °C | Presión crítica: 3MPa (presión absoluta) |
| Densidad crítica: 0,613 g / cm3 | Número CAS: 76 - 16 - 4 |
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