hexafluoroetano (R116)

Il refrigerante R116 (hexafluoroetano, perfluoroetano, C2F6) può essere utilizzato in una tecnica di gravura multifunzionale, comunemente utilizzata nella produzione di semiconduttori. Può essere utilizzato per l'incorporamento selettivo di siliciidi metallici e ossidi metallici rispetto al loro substrato metallico. Oltre al silicio, è anche utilizzato per incidere il biossido di silicio su silicio. L'hexafluoroetano come agente corrosivo secco ha i vantaggi di un fenomeno di erosione laterale del bordo molto piccolo, un alto tasso di gravura e un 'alta precisione, può soddisfare molto bene i requisiti di processo di produzione di larghezza di linea più piccola ed è ampiamente utilizzato nel processo di produzione di semiconduttori.

Parametri del refrigerante R116