Le trifluorure d'azote (NF3) est un gaz incolore, inodore et stable à température ambiante, qui est un puissant oxydant. Le trifluorure d'azote est un excellent gaz de gravure au plasma dans l'industrie de la microélectronique. Il se décompose en ions fluorure actifs pendant la gravure ionique. Ces ions fluorure ont une vitesse de gravure et une sélectivité supérieures pour le silicium et le tungstène. Le trifluorure d'azote de haute pureté ne laisse aucun résidu sur la surface de la gravure pendant la gravure. Il est un très bon agent de nettoyage.
Le trifluorure d'azote de qualité électronique est un nouveau type de produit chimique électronique développé ces dernières années, qui est principalement utilisé pour la gravure au plasma et le nettoyage des composants électroniques. Lorsque le trifluorure d'azote est utilisé pour la gravure du silicium et du nitrure de silicium, il a un taux de gravure et une sélectivité plus élevés et ne laisse aucune substance sur la surface de l'objet gravé.
Principales utilisations du trifluorure d'azote :
I. Utilisé comme source de fluor pour le gaz laser chimique à haute énergie.
II. comme agent de dépôt et agent de nettoyage dans l'industrie électronique (IC).
3, appliqué dans l'industrie solaire photovoltaïque.
Autres utilisations du NF3 : production de sel de perfluorophosphate, utilisé comme gaz de remplissage pour augmenter la durée de vie et la luminosité des ampoules, utilisé comme oxydant dans les mines et la technologie des fusées, etc.
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