R116制冷剂（六氟乙烷，全氟乙烷，C2F6）可用于一种具多功能的蚀刻技术，常见于半导体之生产。它可用于金属硅化物及金属氧化物并相对其金属基质的选择性蚀刻。 叧外，它亦用于蚀刻硅上的二氧化硅。 六氟乙烷作为干腐蚀剂具有边缘侧向侵蚀现象极微、高蚀刻率及高精确性的优点，可以极好地满足线宽较小的制程要求，被广泛应用于半导体制作过程中。
R116制冷剂参数
| 名称：R116、FC-116 | 中文名称：六氟乙烷，电子级氟碳，全氟乙烷，氟里昂116 |
| 英文全称：hexafluoroethane | 化学分子式：CF3CF3、C2F6 |
| 分子量:138 | 标准沸点：-78℃ |
| 临界温度:20℃ | 临界压力：3MPa（绝压） |
| 临界密度：0.613g/cm3 | CAS编号：76-16-4 |
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常见问题
六氟乙烷（R116）是一种制冷剂/化工产品。全氟化合物特种气体，常用于电子行业蚀刻与低温制冷。广泛应用于冰箱、冷柜、饮水机、汽车空调、中央空调、除湿机、冷库、商业制冷、冷水机等制冷设备，以及气雾推进剂、医用气雾剂、发泡剂、灭火剂、清洗剂等工业领域。具体用途请参考产品详情页说明。
在电子蚀刻与低温领域作为特种气体使用。替代或更换系统时，应由具备资质的人员操作，注意系统兼容性与润滑油匹配，并遵循相关安全规范。
应储存于阴凉、干燥、通风良好的库房，远离火种、热源，避免阳光直射；钢瓶宜直立放置、防止倾倒；按高压气体/危险化学品相关规定运输，轻装轻卸，防止钢瓶及附件损坏。
作业场所应保持良好通风；避免液态制冷剂直接接触皮肤（防止冻伤）；远离明火与高温；使用专用工具与防护用具；发生泄漏应迅速撤离、通风并联系专业人员处理。
具体臭氧层破坏潜能值（ODP）与全球变暖潜能值（GWP）请见产品详情页物性参数表。选择制冷剂时应综合考虑能效、安全性与环保要求。
本产品提供多种包装规格（如钢瓶、吨装等，具体以产品详情页为准），支持批量采购。欢迎联系销售获取最新报价与供货周期。
